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: 2023年光刻機行業市場現狀調研及發展前景研究報告

發布時間：2023-08-22

發布機構：五度易鏈行業研究中心

報告形式：PDF

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《2023年光刻機行業市場現狀調研及發展前景研究報告》概要：

　　光刻機(lithography)又名掩模對準曝光機、曝光系統、光刻系統等，是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術，把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印制到硅片上。

　　光刻工藝定義了半導體器件的尺寸，是IC制造中的關鍵環節，而光刻機是光刻工藝的核心設備，也是所有半導體制造設備中技術含量最高的設備，包含上萬個零部件，集合了數學、光學、流體力學、高分子物理與化學、表面物理與化學、精密儀器、機械、自動化、軟件、圖像識別領域等多項頂尖技術。

　　作為整個芯片工業制造中必不可少的精密設備-光刻機，其光刻的工藝水平直接決定芯片的制程和性能水平，因此光刻機更是被譽為半導體工業皇冠上的明珠。

　　目前，我國半導體設備國產化率約為18.8%。該數據包括集成電路、LED、面板、光伏等設備，預計國內集成電路設備國產化率僅為8%左右。細分而言，目前我國企業在去膠設備、清洗設備、刻蝕設備、熱處理設備、PVD設備、CVD設備、CMP設備、涂膠顯影設備均有突破，部分產品成功實現了國產替代。然而對于光刻設備我國仍處于被掐住喉嚨的狀況，國產化率仍不到1%，市場高度依賴進口，且國產化進程整體較慢。

* 本報告系五度數科原創，轉載請注明來源。

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